学术报告

双面对准光刻机讲座与培训通知

来源: 发布日期:2012年10月22日 00:00点击:
时间 地点
报告人

双面对准光刻机讲座与培训通知

设备名称:双面对准光刻机

主讲人:王久洪

主讲内容:光刻工艺的原理、流程、设备及相关知识。

讲座对象:所有感兴趣的教师,学生均可参加。

讲座时间:2010年10月29日星期五,下午2:30~4:00

讲座地点:曲江校区西五楼三楼A328会议室

现场培训地点:曲江校区西五楼超净室硅微加工区

附件大小

Tong_Zhi_.ppt

274 KB