干法刻蚀工艺与设备技术讲座

来源：发布日期：2012年10月22日 00:00点击：

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干法刻蚀工艺与设备技术讲座

Ø主题：干法刻蚀工艺与设备

Ø内容：ICP、RIE、DRIE工艺与设备

Ø对象：感兴趣的研究生

Ø时间：2010-11-10，下午 2:30-4:00

Ø讲座地点：科技园西五楼 A328

Ø现场讲解地点：1楼洁净室

Ø讲座人：王久洪

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