报告题目：纳米结构椭偏散射测量研究：原理、挑战、进展、展望
报告人：刘世元教授华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室
报告时间：2016年4月19日（周二）14：30分
报告地点：曲江校区西五楼A328会议室
报告摘要：椭偏仪是一种测量偏振光状态改变的重要光学仪器，广泛应用于材料光学常数、薄膜厚度及表面特性表征。其中，穆勒矩阵椭偏仪代表了椭偏仪的最高水平，可以获得一个4´4阶的穆勒矩阵共16个参数，因此可以获得更为丰富的测量信息。本报告将阐述基于穆勒矩阵椭偏仪的纳米结构形貌测量基本原理及其研究进展。首先介绍纳米结构椭偏散射计算测量原理，提出并探讨计算测量的基本概念、基础问题及求解策略。然后介绍穆勒矩阵椭偏仪原理及其仪器实现，重点介绍本课题组自主研制的国内第一台高精度宽光谱穆勒矩阵椭偏仪。接下来给出穆勒矩阵椭偏仪在纳米结构薄膜测量中的典型应用实例，包括发现并解释纳米结构光学退偏、结构非对称性、刻蚀各向异性等物理现象。最后展望椭偏测量在OLED、OPV等柔性电子新材料与新工艺研发及大面积薄膜在线监测中的潜在应用。
报告人简介：刘世元，男，1970年出生，博士，教授，博士生导师，国家杰出青年科学基金获得者，科技部中青年科技创新领军人才，国际测量与仪器委员会(ICMI)理事。近年来主持了5项国家自然科学基金、首批国家重大科学仪器设备开发专项等项目。获国际国内发明专利42件，在Appl. Phys. Lett.、Opt. Express、Opt. Lett.等期刊发表SCI论文75篇。重要国际会议做大会/特邀报告15次；担任组委会主席，于2014年11月在武汉组织召开了“第一届全国椭圆偏振光谱学研讨会”。
