干法刻蚀工艺与设备技术讲座
Ø主题：干法刻蚀工艺与设备
Ø内容：ICP、RIE、DRIE工艺与设备
Ø对象：感兴趣的研究生
Ø时间：2010-11-10，下午 2:30-4:00
Ø讲座地点：科技园西五楼 A328
Ø现场讲解地点：1楼洁净室
Ø讲座人：王久洪
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Gan_Fa_Ke_Shi_Jiang_Zuo_Tong_Zhi_.ppt
2.45 MB
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